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蒸发镀膜机的性能特点

2018-09-10  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:334

  蒸发镀膜机的性能特点

  现在我们的蒸发镀膜机为有机无机多源有气相分子沉积系统,其在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手套箱保护条件下器件后期制作。

  蒸发镀膜机主要用于有机半导体材料的物理化学性能 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究;真空室采用不锈钢,氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺,前滑开门及后开门(均采用铝门),前后门上均配观察窗,并预留有手套箱对接接口。

  蒸发镀膜机的基片台尺寸:120mm×120mm,基片台加热:室温~300℃;旋转速度0-20转/分钟可调,基片台可旋转及升降,旋转升降采用金属焊接波纹管+进丝杠+进光轴+直线导轨,样品台升降旋转自如,无抖动。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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