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真空电镀机应用和注意事项

2019-03-29  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:169

  真空电镀机应用和注意事项

  1)真空电镀机中频磁控溅射电源对磁控溅射靶的要求较高,“孪生”的对靶,要求表面磁场、溅射面积、靶的材质和厚度要尽可能一致。不然会影响电源工作,严重时会导致过流保护。

  2)由于两个靶交替工作,中频磁控溅射电源的起辉电压和工作电压较高,低气压下也容易出现灭辉现象。

  3)因两个靶交替工作,从理论上讲中频磁控溅射电源的电流或功率选择,基本上可以按直流磁控溅射的两倍来定,但考虑到其工作电压较高,可适当降低工作电流。

  4)由于目前中频磁控溅射电源的工作频率较低(20~60KHz),还不能溅射绝缘靶材。

  5)中频磁控溅射电源的空载电压一般为≥1000V~1200V,工作电压为500V~800V,工作频率为20KHz~60KHz,占空比为10%~90%。

  6)工作频率高一些,有利于增加打火抑制能力,但会限制电源输出平均电流的能力。

  4、送气系统:主要由电磁阀开关和气体流量控制两部分组成

  5、偏压电源:在多弧离子和磁控溅射镀膜技术中都要使用。只是由于磁控溅射的离化率远低于多弧离子镀,所需偏压电源的功率更小。目前有许多设备既配备磁控溅射靶,也配有多弧靶,选择偏压电源功率时,要以多支工作时的要求来定。早期的偏压电压主要是用可控硅技术的直流偏压电源,现在多为采用高频逆变技术制造的单极性、直流叠加脉冲和双极性脉冲偏压电源。因灭弧和防打火功能太差,已经逐渐被淘汰。偏压电源主要用于多弧离子和磁控溅射镀膜过程中的辉光清洗、离子轰击和膜层沉积时在被镀工件上施加偏压,在辉光清洗时,它产生辉光;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面进的能量,达到啬溅射清洗效果和膜层结合力的目的,在膜层沉积时,它也用于增加离子能量,促进和改善薄膜生长,也会提高膜基结合力。

  1)通用单极性脉冲偏压电源的输出电压为100~1000V,频率为20~80KHz,占空比为10%~80%,输出电流取决于多弧靶的数量和弧流的大小。通常可按3~5A/个选取,而只用于磁控溅射镀膜的偏压电源。则根据工件表面积和辉光放电清洗强度来选,通常可按5A/m2左右来选取。

  2)调高频率和减小占空比能减小打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。实际使用中要根据实际工作情况和需要来调节。

  3)增大占空比可提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层的致密性,但会降低成膜速率,实际使用中要根据需要调节、

  4)辉光清洗电压大约500~1000V,离子轰击电压大约400~800V,成膜电压大约50~300V,在工模具镀膜中,也有采用1500V,3000V,甚至5000V偏压电源的,但应用较少。

  5)工作中如出现低压大电流现象或反复保护,电压、电流不稳定现象,很可能设备有短路和持续拉弧现象,应进行维修。

  6)工作中打火频繁。而且提高频率和占空比也无明显改善时,可能是膜层绝缘性高或工件上有绝缘材料,这时好选用双极性脉冲偏压电源。

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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