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溅射镀膜机设备特点

2017-12-28  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:405

  连续式磁控溅射镀膜机主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套镀膜设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。

  设备特点:

  1.设备采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统 。

  2.生产过程全部自动,连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃,温度分区控制可调。

  3.真空室材料采用SUS304,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后喷漆处理。

  4.真空室之间采用独立门阀隔开,我们设计的是插板阀,可以有效隔断,稳定工艺气体。传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。

  5.电气控制系统:触摸屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。


肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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