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磁控溅射镀膜机技术规格特点

2018-01-04  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:439

  磁控溅射技术是常用的一种物理气相沉积技术。磁控溅射镀膜机可用于制备金属、半导体、绝缘体等多种薄膜材料,具有设备成熟、易于控制、镀膜面积大、附着力强等优点,因此被广泛使用。

  磁控溅射镀膜机技术规格特点:

  - 腔体:铝合金或不锈钢材料可供客户选择,不同尺寸的箱式腔室可选;

  - 泵:分子泵,冷凝泵可选;

  - Load Lock样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底;

  - 与手套箱兼容;

  - 工艺控制:PC/PLC机制的自动控制,使用GUI进行工艺控制、数据处理、远程支持;

  - 原位监控:石英晶振监测(QCM),光学监测,残余气体分析,其他原位监测技术或控制;

  - 衬底固定:单衬底固定,多衬底固定,行星式衬底固定,客户化衬底固定方式;

  - 衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;

  - 离子源:衬底预先清洗辅助沉积,纳米尺度表面修饰;

  - 磁控溅射沉积技术:射频(RF),直流(DC),脉冲直流(Pulsed-DC);

  - 静态溅射,共溅射,反应溅射,在线溅射;

肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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